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ALD制备光电器件,电流注入不进去
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使用ALD制备的光电器件,测试时电流注入不进去只能到负六次方,击穿电压在85v左右, 怀疑一,光刻完刻蚀后有小点点,是不是这个有影响? 怀疑二,介质保护层的比例问题? 怀疑三,透明电极层?生长透明电极层的设备现在背底压强很高,不知道是不是这个有影响? 各位大佬求帮助(=^?ω?^=),实在没有金币,抱歉抱歉 发自小木虫Android客户端 |
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