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新虫 (初入文坛)

[交流] ALD制备光电器件,电流注入不进去

使用ALD制备的光电器件,测试时电流注入不进去只能到负六次方,击穿电压在85v左右,
怀疑一,光刻完刻蚀后有小点点,是不是这个有影响?
怀疑二,介质保护层的比例问题?
怀疑三,透明电极层?生长透明电极层的设备现在背底压强很高,不知道是不是这个有影响?
各位大佬求帮助(=^?ω?^=),实在没有金币,抱歉抱歉

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