| 查看: 536 | 回复: 0 | |||
[交流]
ALD制备光电器件，电流注入不进去
|
|
使用ALD制备的光电器件，测试时电流注入不进去只能到负六次方，击穿电压在85v左右， 怀疑一，光刻完刻蚀后有小点点，是不是这个有影响？ 怀疑二，介质保护层的比例问题？ 怀疑三，透明电极层？生长透明电极层的设备现在背底压强很高，不知道是不是这个有影响？ 各位大佬求帮助(=^?ω?^=)，实在没有金币，抱歉抱歉 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
售SCI一区T0P文章，我:8.O.5.5.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有4人回复
-
论文撤稿了
已经有6人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.5.5.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.5.5.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.5.5.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有5人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.5.5.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有4人回复
-
河北省自然科学基金
已经有9人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.5.5.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有8人回复
-
西安交大新媒学院副院长用撤稿论文结题
已经有5人回复
-
某211大学教师把个人教师官方主页改成:我跑了我跑了我跑了!官宣跑路！
已经有5人回复
10