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ALD制备光电器件，电流注入不进去
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使用ALD制备的光电器件，测试时电流注入不进去只能到负六次方，击穿电压在85v左右， 怀疑一，光刻完刻蚀后有小点点，是不是这个有影响？ 怀疑二，介质保护层的比例问题？ 怀疑三，透明电极层？生长透明电极层的设备现在背底压强很高，不知道是不是这个有影响？ 各位大佬求帮助(=^?ω?^=)，实在没有金币，抱歉抱歉 发自小木虫Android客户端 |
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