| 查看: 469 | 回复: 0 | |||
[交流]
ALD制备光电器件，电流注入不进去
|
|
使用ALD制备的光电器件，测试时电流注入不进去只能到负六次方，击穿电压在85v左右， 怀疑一，光刻完刻蚀后有小点点，是不是这个有影响？ 怀疑二，介质保护层的比例问题？ 怀疑三，透明电极层？生长透明电极层的设备现在背底压强很高，不知道是不是这个有影响？ 各位大佬求帮助(=^?ω?^=)，实在没有金币，抱歉抱歉 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
请问哪里可以有青B申请的本子可以借鉴一下。
已经有4人回复
-
真诚求助：手里的省社科项目结项要求主持人一篇中文核心，有什么渠道能发核心吗
已经有6人回复
-
孩子确诊有中度注意力缺陷
已经有14人回复
-
三甲基碘化亚砜的氧化反应
已经有4人回复
-
请问下大家为什么这个铃木偶联几乎不反应呢
已经有5人回复
-
请问有评职称，把科研教学业绩算分排序的高校吗
已经有5人回复
-
2025冷门绝学什么时候出结果
已经有3人回复
-
天津工业大学郑柳春团队欢迎化学化工、高分子化学或有机合成方向的博士生和硕士生加入
已经有4人回复
-
康复大学泰山学者周祺惠团队招收博士研究生
已经有6人回复
-
AI论文写作工具：是科研加速器还是学术作弊器？
已经有3人回复
