| 查看: 607 | 回复: 0 | |||
[交流]
ALD制备光电器件，电流注入不进去
|
|
使用ALD制备的光电器件，测试时电流注入不进去只能到负六次方，击穿电压在85v左右， 怀疑一，光刻完刻蚀后有小点点，是不是这个有影响？ 怀疑二，介质保护层的比例问题？ 怀疑三，透明电极层？生长透明电极层的设备现在背底压强很高，不知道是不是这个有影响？ 各位大佬求帮助(=^?ω?^=)，实在没有金币，抱歉抱歉 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
售SCI一区T0P文章，我:8.O.55.1.O.5.4,科目全,可+急
已经有6人回复
-
售SCI文章，我:8O5.5.1.O.54,科目齐全,可+急
已经有6人回复
-
【长期招聘】复旦大学 AI 制药实验室 博士后招聘
已经有11人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.55.1.O.5.4,科目全,可+急
已经有7人回复
-
2027博士申请-临床检验诊断学、病原生物学、微生物方向
已经有5人回复
-
各位基础老师们，看完中央《从严治党》的决定后，对学术界更加有信心了吧
已经有4人回复
-
申博自荐 2篇一区TOP+1篇EI+2公开发明专利 2027博士申请
已经有3人回复