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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料其他 » 磁控溅射参数问题
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礼拜一lby

铜虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射参数问题

现在用磁控溅射射频源溅射石墨靶，气压0.5到1pa，气体流量20，30 功率从70到150w都有,溅射一小时但是衬底上没有膜，或者是非常非常薄的膜。这样设置有错误吗？

@hwweven 发自小木虫IOS客户端
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1楼 2019-06-14 18:53:40
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理工小伟

木虫 (著名写手)
增大射频功率降低气压

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精于勤 荒于嬉
4楼2019-06-19 22:24:32
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L小懒虫

木虫 (著名写手)
基体偏压多少？功率可以需要提高，石墨靶和金属靶不一样

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2楼2019-06-19 06:44:57
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理工小伟

木虫 (著名写手)
靶材与基片之间的距离

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精于勤 荒于嬉
3楼2019-06-19 22:23:50
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礼拜一lby

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 理工小伟 at 2019-06-19 22:23:50
靶材与基片之间的距离

我看文献都是60-80,我们这个仪器大概得100+

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5楼2019-06-26 18:04:45
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