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【求助】散射区分子是不是得是周期性的
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不好意思各位,我问了很多建模和局部优化的问题。。。 请看我的这个散射区模型,见图 三层Si + 中间的SiO2分子 我查过文献后,得到这种SiO2是和Si界面较好的结合。下面有两个问题: 1,这个SiO2分子团,边界的Si原子是不饱和的。也不具有周期性结构。这样能直接优化吗? 2,继续优化顺序的问题,先撇开电极不优化。我是不是需要 a,优化散射区左右三层Si,固定电极+SiO2分子; b,优化整个SiO2分子,固定电极+散射区Si surface; c,优化Si/SiO2界面,比如这里我只取一层Si和一层SiO2; d,完全不做整体优化,abc三部分优化完后,直接连起来算IV。节省时间。 问了两个问题,悬赏6个金币。 |
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基金正文30页指的是报告正文还是整个申请书
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小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
zdhlover(金币+2,VIP+0):谢谢,欢迎常来 5-29 01:19
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如果atk的理论框架没变的话,电极和中心区的界面处应该满足若干连续性条件,有效势,电荷等等。 也就是说,atk所谓的surface layer在界面处与lead的电荷和有效势应该是一样的。固体的屏蔽长度(大概叫这个名字吧)大概跟电荷密度的平方根成反比,所以金属的屏蔽要比半导体好。通常认为贵金属(金银铜之类的)至少至少需要三层来屏蔽某势能/电荷变化,而半导体要更多些。所以。。。我们的经验是:三层金属经常有问题,4层可以接受,5层比较理想 |

6楼2009-05-27 03:16:55
spur
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