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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【求助】寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist
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liuyanping105

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist

寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist

小弟最近想给附在硅上的薄膜做个电极，想寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist。我们知道PMMA是一种透明的photoresist，但这种photoresist是用EBL曝光的，请问是否有这种即透明又能用紫外光曝光的photoresist.
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1楼 2009-05-15 21:31:56
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quanbaogang

木虫 (正式写手)
透明是很生活化的说法，科学一点说在什么频率或多少纳米波长处透过率是多少。

另外，对于一般的光刻胶来说也不是不透明，只是透过性差。据我所知，SU8是吸收系数较小的，可以试试看。
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2楼2009-05-20 08:53:02
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liuyanping105

银虫 (小有名气)

谢谢

谢谢你们的解答！
我的透明是指sample 在PR spin coat 之后也能看到，这样我可以利用lithography UV 曝光在PR下面的SAMPLE(可以选择性的曝光）。
SU-8 3035PR 是白色透明的，但这个PR很难冲洗掉！
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3楼2009-05-23 14:20:13
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highchen

金虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
如果说指的是甩胶后能够看到底下的样品，那么大部分的正胶（较薄）都可以做到这一点，如1813等，就是这些胶大部分有颜色，如红颜色，但并不影响看到下面的样品。如果对分辨率要求不高，一些紫外固化的胶，如NOA63等也可以做到既透明，又可以通过模板光刻。SU-8胶不推荐，显影后很难去除，做永久性的结构倒可以。
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4楼2009-05-29 10:43:15
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