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liuyanping105

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist

寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist

小弟最近想给附在硅上的薄膜做个电极,想寻找一种透明能用紫外光曝光photoresist。我们知道PMMA是一种透明的photoresist,但这种photoresist是用EBL曝光的,请问是否有这种即透明又能用紫外光曝光的photoresist.
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quanbaogang

木虫 (正式写手)

透明是很生活化的说法,科学一点说在什么频率或多少纳米波长处透过率是多少。

另外,对于一般的光刻胶来说也不是不透明,只是透过性差。据我所知,SU8是吸收系数较小的,可以试试看。
2楼2009-05-20 08:53:02
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liuyanping105

银虫 (小有名气)

谢谢

谢谢你们的解答!
我的透明是指sample 在PR spin coat 之后也能看到,这样我可以利用lithography UV 曝光在PR下面的SAMPLE(可以选择性的曝光)。
SU-8 3035PR 是白色透明的,但这个PR很难冲洗掉!
3楼2009-05-23 14:20:13
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highchen

金虫 (小有名气)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
如果说指的是甩胶后能够看到底下的样品,那么大部分的正胶(较薄)都可以做到这一点,如1813等,就是这些胶大部分有颜色,如红颜色,但并不影响看到下面的样品。如果对分辨率要求不高,一些紫外固化的胶,如NOA63等也可以做到既透明,又可以通过模板光刻。SU-8胶不推荐,显影后很难去除,做永久性的结构倒可以。
4楼2009-05-29 10:43:15
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