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【求助】石英衬底上生长多晶硅薄膜的问题
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最近在石英上用高频加热的CVD，生长多晶硅薄膜，不论是在粗糙衬底上还是在抛光衬底上，长完膜后（长膜是960度，10-15分钟），进行固态硼源扩散，1000度1个小时，结果测不出方块电阻。 后来长膜的时间缩短到3-5分钟，扩散时间缩短到30分钟，在样品背面可以测出方块电阻，而正面仍不行。 向大家请教原因。 |
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2楼2009-05-14 18:36:29