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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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forever

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】【求助】做MOCVD生长的虫虫

我今后希望做半导体方面的课题,但没有生长设备,希望能协助生长特殊设计的InGaAs/InP外延片,我可以购买基片和提供生长的费用。
     做MOCVD生长的虫虫,希望联系一下!QQ532974933,谢谢
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forever

木虫 (正式写手)

多谢楼上!
我是否能够购买?
多谢回答
3楼2009-05-13 22:22:15
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元小雪

木虫 (职业作家)


ddx-k(金币+1,VIP+0):谢谢 5-12 22:05
你可以和武汉国家光电实验室联系下子,他们有很大的设备
无聊的博士
2楼2009-05-12 18:26:03
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catv2006

金虫 (小有名气)

生长什么样的结构,能不能先说说,说不定偶可以帮忙
4楼2009-05-14 08:37:53
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forever

木虫 (正式写手)

多谢 catv2006  !
我们要求生长的片子比较厚,比如说:
1.
InP(基底)/InP缓冲层/In0.53Ga0.47As()/渐变层(约0.1-0.3um)/InP(0.3-0.5um)
掺杂均为p型Zn掺杂,(用Be可能怕有毒,呵呵)
要求:1.InGaAs层是用来进行光吸收的,一般是1-2um,掺杂为p型,浓度5*10^15cm(^)-3
2.表面InP层,0.5um,掺杂浓度2*10^16,
.渐变层,这一层的要求要求与InP晶格严格匹配,这是一般的片子,比较好生长。

而如果是特殊的生长材料,我们不但要求掺杂浓度线性变化,能带也需要特殊设计(其设计与组分和物种相关),即不但要求掺杂浓度,而且对能带的变化有一定的要求。总之,如果生长,我们也会画出图形,列出对浓度和要求,这不是一句两句话能说清楚的。

2.更为复杂的生长,必如
GaAs衬底/InxGa1-xAs缓冲层(有应力存在)/InAs(1-2um)/InxGa1-xAs(0.2-0.5um)/GaAs(0.5um)  (考虑用GaAs作为基底比较便宜,呵呵,其实为了减小应力用InP为衬底更好一些。)
这个生长,要求可以有应力存在,但不需要位错的存在,(位错的要求与严格匹配的异质结相同,尽可能防止电子的复合中心存在),除了尽可能小的位错密度,对生长的掺杂变化,和能带的变化都有要求。
      这个设计会难一些,因为要用到应变带来的能带变化量,和应力带来的电场变化P=a*E(相当于自starke效应一样,).
      我不是搞半导体生长的,我想如果能将特殊设计的参数都列出来的话,用MOCVD自动控制生长时,只要将数据输入就行了。
目前正在优化参数,如果楼上能协助生长,我们会尽可能地将生长参数列得详细一些,并会支付一定的费用。
      再次谢过catv2006 !

[ Last edited by forever on 2009-5-14 at 15:38 ]
5楼2009-05-14 15:33:07
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