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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 厚胶4620刻蚀中剥落
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czcdxmc

木虫 (正式写手)
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厚胶4620刻蚀中剥落
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使用4620光刻胶做掩膜，在刻蚀si过程中出现剥落的情况，剥落的形状为分立的一个个小坑。是由于烘烤时间不足，光刻胶太湿导致的吗？

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1楼 2019-03-08 09:04:22
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
部分原因是的。但更大的原因是设备本身能力问题，冷却不够好。
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20楼2019-03-13 13:53:42
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gyxzby

铜虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
干法刻蚀，等离子体辉光，光刻胶烘烤不充分或者湿度控制不当，造成光刻胶二次曝光，产生氮气，产生光刻胶破洞。你自己查一下这个文献：感应耦合等离子体干法刻蚀中光刻胶掩模的异常性
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21楼2019-03-19 16:38:35
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hdchina20102楼
2019-03-08 09:04   回复  
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且行且忆3楼
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tzynew4楼
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zfpd27665楼
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xwpm226楼
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cffyau7楼
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格林的童话9楼
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张锴珉12楼
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zxf98413楼
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李小罗16楼
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panpan540318楼
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陈和冬47510819楼
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