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zhangletao1986

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】如何去除硅表面的氧化层?

想在硅片上做一层氧化物,需要去除表面的氧化层,只知道用HF酸,但具体的腐蚀时间和浓度不太清楚。
请高手赐教。
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飞向彼岸

铜虫 (小有名气)

★ ★
heavence007(金币+1,VIP+0):谢谢应助 7-29 00:48
zhangletao1986(金币+1,VIP+0): 7-29 11:33
氢氧化钠也行。
横渡苦海,通达彼岸。
2楼2009-07-28 20:58:39
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aylizheng

木虫 (正式写手)

萤火虫

★ ★
heavence007(金币+1,VIP+0):谢谢应助 7-29 00:49
zhangletao1986(金币+1,VIP+0): 7-29 11:33
用的是硝酸和HF酸
3楼2009-07-28 22:18:31
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jiangfuxue

木虫 (正式写手)

★ ★
chemcccc(金币+1,VIP+0):thx 7-29 10:09
zhangletao1986(金币+1,VIP+0): 7-29 11:33
可直接用氢氧化钠溶液
4楼2009-07-29 07:42:06
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yangjf

铁杆木虫 (著名写手)

好像HF只和氧化层反应吧
5楼2009-08-02 21:35:48
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