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电子束光刻的加工水平
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电子束光刻的加工水平
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我想问一下,现在电子束光刻是否能在sio2片上够刻蚀出长100nm宽12nm高12纳米的金纳米棒,这种加工要求现在的技术能达的到吗?加工费用的话大概是多少
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2019-01-22 19:56:48
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vinsonone
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专业: 无机纳米化学
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EBL肯定能做到, 我们实验室也可以, 就是5*5mm尺寸, 估计要写好几天吧
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2019-01-30 13:56:38
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gyxzby
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专业: 化学生物学与生物有机化学
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
没明白你意思,光刻作出图形长100nm宽12nm,刻蚀高12纳米的金纳米棒么?我估计悬
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2楼
2019-01-23 17:18:44
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新虫
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2楼
:
Originally posted by
gyxzby
at 2019-01-23 17:18:44
没明白你意思,光刻作出图形长100nm宽12nm,刻蚀高12纳米的金纳米棒么?我估计悬
对啊,然后按这个规格刻成阵列,大概要5*5 mm吧
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3楼
2019-01-23 17:41:39
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gelivable
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专业: 半导体光电子器件
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
电子束刻蚀 非光刻。这种专业问题应该联系ebl工程师,尺寸按照仪器说明是没有问题,毕竟宣称可以写sub10nm,但实际情况还是要看工程师水平。另外5X5mm阵列估计悬,写速很慢的,不怕花钱也可以试试
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4楼
2019-01-24 11:00:32
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