| 查看: 102 | 回复: 0 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
| 【有奖交流】积极回复本帖子，参与交流，就有机会分得作者 yangweiliu 的 10 个金币 | |||
yangweiliu至尊木虫 (著名写手)
|
[交流]
【讨论】急！检测半导体掺杂用什么样的离子线技术表征？
|
||
|
为了检测两个半导体的n型掺杂是否不同，在两个硅片上n型掺杂（植入P），掺杂浓度是5exp13 at/cm2。 请问用什么技术检测：静态二次离子质谱法，动态二次离子质谱法，卢瑟福背散射谱，还是中等能量离子散射谱？为什么？ 在这方面是新手，请多多指教，谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有60人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
-
河北大学-招收26年秋季入化学博士1名
已经有0人回复
-
XPS/?λXPS
已经有0人回复
-
河北大学-招收化学博士1名
已经有0人回复