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yuh1984

木虫 (著名写手)

[交流] 【求助】磁控溅射镀膜的影响因素!

请教大虾关于磁控溅射镀膜的影响因素!例如:生长功率,生长压强,本体压强,靶基距。究竟这些通过影响什么来影响薄膜生长的。还有就是靶材材料究竟是以何种形式打到薄膜上的,是原子还是离子团还是材料不同结果不一样。
我在百度查过,但是感觉不是很详细。
请大虾们以亲身实验告诉小弟,或者给点资料也行。
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银虫 (正式写手)

★ ★ ★ ★
yuh1984(金币+4,VIP+0):呵呵,还是看书吧!哪本书好呢? 4-17 08:46
你是做科研的,这些都是最基本的资料,应该从“薄膜生长”之类的科学书籍之类中找寻,怎么能用百度这种方式呢?
你问的这些问题,都是教材里面的基本资料,找一本教材,好好看看,得到的会比用网络得到的更详细啊。
4楼2009-04-17 00:42:40
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银虫 (正式写手)

多泡泡小木虫,里面有很多书籍,像是“薄膜物理”“真空技术”之类的都会有介绍的啊,材料板以前有一个“材料百科全书”之类的,里面讲到薄膜生长技术是非常详细的啊,
5楼2009-04-17 09:48:35
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