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kin123321新虫 (初入文坛)
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[求助]
求助spacer和sidewall etch back工艺
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求问工艺的要求，是否对牺牲层侧壁垂直度要求非常高？另外，如果侧壁的平整度差，突刺太多，是不是很难形成spacer的结构？ 另外实验室光刻胶显影后呈现正梯形，并且在rie里被刻蚀的较快，导致下层材料刻蚀的侧壁角度很斜。请问有无办法解决？ 实验室光刻显影都是手工的，是不是会导致光刻胶边缘的不平整？ 非常抱歉问题很多，希望诸位不吝赐教！ 发自小木虫Android客户端 |
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