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求助大神，光刻胶显影出现脱落，怎么办？已有3人参与
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我在硅片上镀了一层金属，又做了几层纳米级的介质，用正胶1805做的光刻结构，前烘和后烘都做了，温度100℃，显影后冲洗光刻胶脱落了，是因为金属反光的原因吗？ 还有这个金属层会不会形成干涉，对我的光刻结构有影响啊。求助大神?? 我的样品好像不疏水，之前用硅片测试，可以做的很好，一用我的样品做就出现这种问题。??? @yswyx 发自小木虫Android客户端 |
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4楼2019-05-29 08:43:54
yswyx 
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2楼2018-11-07 16:24:32
3楼2019-01-03 11:43:48
lixin4307
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- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
5楼2019-06-02 20:29:20
5
