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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 微米和纳米 » yswyx » 求助大神，光刻胶显影出现脱落，怎么办？
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【悬赏金币】回答本帖问题，作者小木05238将赠送您 10 个金币

小木05238

新虫 (初入文坛)

[求助] 求助大神，光刻胶显影出现脱落，怎么办？已有3人参与

我在硅片上镀了一层金属，又做了几层纳米级的介质，用正胶1805做的光刻结构，前烘和后烘都做了，温度100℃，显影后冲洗光刻胶脱落了，是因为金属反光的原因吗？
还有这个金属层会不会形成干涉，对我的光刻结构有影响啊。求助大神??
我的样品好像不疏水，之前用硅片测试，可以做的很好，一用我的样品做就出现这种问题。???

@yswyx 发自小木虫Android客户端
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1楼2018-11-07 10:51:26
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
说明你的纳米级介质和光刻胶不沾啊。建议使用增粘剂。
买增粘剂可以联系研材微纳。
你的样品不疏水，一般来说，对光刻胶的黏附性是极其有害的。所以最好增粘剂的时候把后续的工艺交待清楚，以便帮助选择合适的增粘剂。
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2楼2018-11-07 16:24:32
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苏hzr

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

减少曝光量，增加预烘温度，有没有试过，我在钼铝钼上做比在硅片上做曝光量要少好多
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多少事，从来急，天地转，光阴迫，一万年太久，只争朝夕
3楼2019-01-03 11:43:48
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格雷森

新虫 (初入文坛)
前烘温度可能不够，曝光可能也短，光刻胶没充分发生交联反应

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4楼2019-05-29 08:43:54
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lixin4307

铜虫 (小有名气)
基片涂胶前基片多烘烤一会，再不行就涂增粘剂
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5楼2019-06-02 20:29:20
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stellaintl

新虫 (小有名气)
那应该问题出在介质层，S1805的厚度？前烘的时间？部分剥离还是全部？

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4Pico激光直写致力于高精度的微纳米结构的加工
6楼2019-06-13 16:33:28
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ch6181295

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2018-11-07 16:24:32
说明你的纳米级介质和光刻胶不沾啊。建议使用增粘剂。
买增粘剂可以联系研材微纳。
你的样品不疏水，一般来说，对光刻胶的黏附性是极其有害的。所以最好增粘剂的时候把后续的工艺交待清楚，以便帮助选择合适的增粘 ...

增粘剂太毒，实验室里拒绝使用，在片子上沉积一层碳氢聚合物，很好的解决粘附性的问题…

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7楼2019-11-19 21:57:06
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