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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 【求助】磁控溅射镀膜问题
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feixiang132

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射镀膜问题

磁控溅射镀膜（直流电源或者射频电源）
例如镀金膜
有没有溅射功率与膜厚的经验公式？
如果没有，怎么样控制膜厚呢？
没有购置膜厚仪。

[ Last edited by ufoer on 2009-4-9 at 14:26 ]
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1楼 2009-04-09 08:23:02
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hdtang1976

铁杆木虫 (小有名气)
★ ★
feixiang132(金币+1,VIP+0):非常感谢！！！！ 4-9 10:34
闪闪红心(金币+1,VIP+0):认真回复！谢谢 4-9 11:56
有经验公式的，不过好像要知道金的一些参数，好像是a，b之类的，
DP=a*Pb（b为指数）
上式中，DP——沉积速率；P——溅射功率；a、b为常数，在溅射功率低时，实验值和理论值基本互相一致。随着溅射功率的增加，实验值同理论值之间存在一个负偏差值，这主要是因为随着溅射功率的增加，Ar＋离子流本身的动能增加，对衬底表面的SiC涂层的刻蚀作用增强，从而使得制备的涂层的厚度要比理论值低。
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2楼2009-04-09 08:59:41
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ufoer

荣誉版主 (著名写手)

PNNL- new life
★ ★
feixiang132(金币+2,VIP+0):可能只能这样比较可信了，谢谢了 4-9 21:25
膜厚一般是通过沉积时间进行控制的。即首先测出一个条件下薄膜的沉积速率，然后通过控制时间，进而控制膜厚。但第一次首先要在确定的时间下测出膜厚作为基准进而计算沉积速率。测膜厚的方法很多，常见的有台阶仪、椭偏仪和断面SEM观察法
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xxxxxxxxxxxxx
3楼2009-04-09 14:29:22
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255255

木虫 (正式写手)
★ ★
SHY31(金币+1,VIP+0):鼓励新虫 4-9 19:56
feixiang132(金币+1,VIP+0):thanks! 4-9 21:26
个人经验是一纳米大概15秒左右，仅供参考，直流溅射
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4楼2009-04-09 19:50:37
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lvyifei9286

金虫 (正式写手)
★
feixiang132(金币+1,VIP+0):thanks! 4-9 21:26
我们也是用三楼说的那种方法做的
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5楼2009-04-09 20:35:13
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whzg

木虫 (知名作家)
★
ufoer(金币+1,VIP+0):谢谢交流 4-10 21:35
磁控溅射镀膜对薄膜厚度的控制主要是通过沉积时间来进行调节，作出膜厚-沉积时间曲线可对你薄膜厚度选择有很好参考，当然其它沉积参数一定。

[ Last edited by whzg on 2009-4-11 at 10:44 ]
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6楼2009-04-10 07:29:37
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