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氧化亚硅高温煅烧出现的一些问题
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张娟呵呵
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氧化亚硅高温煅烧出现的一些问题
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氧化亚硅750度高温4小时,XRD测试材料还是无定形态,没有硅的峰,不过容量以及首效降低太多,是不是因为高温煅烧导致氧化亚硅歧化生成二氧化硅包覆在颗粒表面,导致材料的导电性变差?如果发生了歧化反应XRD测试为什么没有显示硅的峰?谢谢大家
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2018-09-17 10:41:24
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afeitfj
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4楼
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Originally posted by
_星子_
at 2018-09-19 15:10:21
我也在尝试合成氧化亚硅,但还没成功,因为可参考的工艺太少!
通过亚硅分解提高首效,思路是可取的,但需要精确控制歧化程度,另外分解产生的硅和氧化硅的分布也很重要,歧化的理想状态应该是氧化硅完全包覆硅, ...
楼主说理想的情况是氧化硅包裹晶体硅,不是吧,这样的话硅不就更不好发挥容量了,不是一般都要打开包裹的那层氧化硅基质吗
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7楼
2019-04-28 10:20:09
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2018-09-20 09:45:58
氧化亚硅在大于600度(保护气)时就会发生缓慢的歧化反应,产生的二氧化硅和硅单质是无定形态的,XRD不会有明显的特征峰,希望有帮助!PS:你用的氧化亚硅是市售还是自制,另外加热的目的是什么?
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2楼
2018-09-18 15:14:22
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2楼
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_星子_
at 2018-09-18 15:14:22
氧化亚硅在大于600度(保护气)时就会发生缓慢的歧化反应,产生的二氧化硅和硅单质是无定形态的,XRD不会有明显的特征峰,希望有帮助!PS:你用的氧化亚硅是市售还是自制,另外加热的目的是什么?
氧化亚硅是自制,我是将氧化亚硅作为锂离子电池负极材料,将氧化亚硅高温歧化生成纳米硅晶畴和氧化硅,是为了提高其首次库伦效率。
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3楼
2018-09-19 10:11:31
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3楼
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Originally posted by
张娟呵呵
at 2018-09-19 10:11:31
氧化亚硅是自制,我是将氧化亚硅作为锂离子电池负极材料,将氧化亚硅高温歧化生成纳米硅晶畴和氧化硅,是为了提高其首次库伦效率。...
我也在尝试合成氧化亚硅,但还没成功,因为可参考的工艺太少!
通过亚硅分解提高首效,思路是可取的,但需要精确控制歧化程度,另外分解产生的硅和氧化硅的分布也很重要,歧化的理想状态应该是氧化硅完全包覆硅,但实际情况是二者是共存在颗粒表面的,所以,可能需要把表面生成的硅去掉,整个结构才会稳定。
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afeitfj
4楼
2018-09-19 15:10:21
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