| 查看: 532 | 回复: 0 | ||
[求助]
copper precipitation缀饰法（decoration method）位错表征的问题
|
| 缀饰法copper precipitation表征单晶硅中的位错时，为什么铜可以扩散到晶体表面下位错附近，是进入了格位还是间隙啊，求大神解读，很困扰 |
回复此楼» 本帖附件资源列表
-
欢迎监督和反馈：小木虫仅提供交流平台，不对该内容负责。
本内容由用户自主发布，如果其内容涉及到知识产权问题，其责任在于用户本人，如对版权有异议，请联系邮箱：xiaomuchong@tal.com - 附件 1 : Copper_Precipitation_on_Dislocations_in_Silicon.pdf
2018-08-20 12:09:08, 493.85 K
» 猜你喜欢
天津理工大学
已经有0人回复
-
台州学院有序多孔材料团队最后冲刺，同学们别错过哦，请速联系！
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有81人回复
-
江西科技师范大学物理化学课题组接收调剂生，名额还有，速来
已经有0人回复
-
求碳酸钠和碳酸氢钠的晶胞结构图或晶体结构图
已经有0人回复
-
求碳酸钠和碳酸氢钠的晶胞结构图或晶体结构图
已经有0人回复
-
江西科技师范大学物理化学课题组接收调剂生，12点开启，速来
已经有0人回复
-
【2026 考研调剂】哈尔滨工程大学 招收学硕调剂生（英语一、数学一）
已经有0人回复
-
四川轻化工大学化学与环境工程学院 付昱教授课题组招收调剂硕士研究生
已经有11人回复
