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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 设备设计与开发 » 磁控溅射镀膜，负偏压作用大吗？
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luobingchi

新虫 (小有名气)
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磁控溅射镀膜，负偏压作用大吗？
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负偏压能够吸引多少带电离子轰击基片，对薄膜生长形态影响大吗?论文上很多结果不太相信，想听听实际情况。

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1楼 2018-07-27 13:07:55
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L小懒虫

木虫 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
有很大影响，可以影响核的形成速度的增长速度，可以对沉积粒子进行选择，可以提高涂层粒子饶射性等等诸多影响

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12楼2018-07-27 13:53:30
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20095173

至尊木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
影响大不大，你做一下对比就知道了。直流溅射做氮化钛，不加偏压和加了偏压。应力，硬度等参数，完全不一样。

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13楼2018-07-27 14:26:08
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luobingchi

新虫 (小有名气)
我总觉得影响不大，不同批次和时间制备的薄膜，应力，硬度，微结构，都存在差别，主要是负偏压施加，增加了多少粒子，能否测一下

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14楼2018-07-29 12:22:19
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littlemouse7楼
2018-07-27 13:15   回复  
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greenfly11楼
2018-07-27 13:37   回复  
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tzynew2楼
2018-07-27 13:08   回复  
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hdchina20103楼
2018-07-27 13:08   回复  
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pandongzi10楼
2018-07-27 13:37   回复  
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mqq12155楼
2018-07-27 13:14   回复  
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cjinfor4楼
2018-07-27 13:13   回复  
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storm0099楼
2018-07-27 13:33   回复  
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闻道尤浅8楼
2018-07-27 13:28   回复  
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SW72AZ6楼
2018-07-27 13:14   回复  
luobingchi(金币+1): 谢谢参与
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