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半导体异质结界面的强反型
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半导体MIS结构中的强反型条件是表面少子浓度与体内多子浓度相等 我不明白的是 1、在这个条件下，通过增大栅压，可继续增大表面少子浓度，但为什么少子只会堆积在反型层中？ 2、MS结构中，也有反型层，但失去了绝缘层后，候强反型是否还会使耗尽层电势不再增大？ |
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2018-06-28 21:58
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2018-06-28 22:00
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jjyej294楼
2018-06-28 22:06
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zqunm5395楼
2018-06-28 22:12
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xetde846楼
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wvsvp7839楼
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eaukcs2310楼
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nydrwap80411楼
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