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溅射和蒸镀成膜的优劣，提到溅射台阶覆盖好、蒸镀台阶覆盖差。
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我在查看溅射和蒸镀成膜的优劣时，其中提到 溅射的方式台阶覆盖好 蒸镀的方式台阶覆盖差 等。 那么我有4个疑惑之处，请懂行的老师指点一下。 1、这个台阶所指的是什么？2、怎么形成的？ 3、为什么溅射后的薄膜不经过退火反而很容易去除？ 4、用溅射的方式可否来修补金属表面的缺陷？ |
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 磁控溅射镀膜工艺 |
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1、这个台阶所指的是什么？ 正常的镀膜都是沉积源和基片面对面，面对面部分薄膜沉积的都很完整；但是不是正对的，比如台阶的纵向部分蒸镀就完全镀不上了，而溅射镀膜可以镀膜，体现的就是溅射镀膜过程基片表面无论凹凸覆盖性都很好。 2、怎么形成的？ 如上，台阶覆盖性这个概念来源于半导体行业。 3、为什么溅射后的薄膜不经过退火反而很容易去除？ 容不容易去除和结合力有关的，退火其实可能产生的就是界面的相互扩散导致结合力提高，但是也和具体的镀材和基材有关。 4、用溅射的方式可否来修补金属表面的缺陷？ 你所说的修补如果是全面积的覆盖一层，那么可以；如果是让凹处完全填平，那么不能。 |
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东东那个东23楼2018-06-19 18:15:10
15楼2018-06-19 14:30:24
18楼2018-06-19 14:38:49
24楼2018-06-20 08:58:44
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溅射气压比热蒸发高，粒子碰撞多，加之溅射有磁场，两者粒子运动轨迹不一样。此外，溅射粒子入射能比热蒸发大数十倍至百倍。溅射有绕射现象，台阶处阴影效应不明显，而热蒸发粒子几乎呈直线运动，无法到达台阶处，成膜质量较差，此外，还与粒子入射能有关。 发自小木虫Android客户端 |
25楼2018-07-02 21:28:54
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ktzdb6492楼
2018-06-19 14:01
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