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LAnza_lw

银虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射镀膜膜厚测量方法讨论已有1人参与

目前主要从事中频反应溅射,需要在2D或3D面(光滑/粗糙)上镀装饰膜;测量膜厚的方法主要是:球磨>金相显微镜测截面>SEM,膜厚分布1~4μm;球磨法较快,但是测量误差很大(0~0.5μm);金相镜须制样且同样受测试员操作影响,而且研磨面令人发指;SEM耗时长(24H有报告),也苦于表面制备垃圾、成本。请问有没有其他可以精准测量膜厚(误差不超过0.1μm),用时短(<3h)的方法呢?晶振片适用于磁控溅射吗?请指教,谢谢
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PVD,磁控溅射,金属镀膜,研发工程师
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
LAnza_lw: 金币+10, 有帮助 2018-05-31 09:10:52
台阶仪,dektek大约30来万一台
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
12楼2018-05-22 10:41:26
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强哥哥哥

新虫 (著名写手)

2楼2018-05-21 18:41:10
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wiseroy

木虫 (著名写手)

更多共享-更多交流-更多进步

善良
3楼2018-05-21 18:50:08
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jackyang1995

新虫 (正式写手)

磁控溅射一般用时间控制啊

发自小木虫Android客户端
4楼2018-05-21 19:15:19
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