| 查看: 556 | 回复: 0 | ||
[求助]
求paper一片，半导体刻蚀相关的
|
|
Dry Etching of Mo based layers and its interdependence with a poly-Si/MoOxNy/TiN/HfO2 gate stack V.Paraschiv，W.Boullart，E.Altamirano-Sánchez 《Microelectronic Engineering》 Volume 105, May 2013, Pages 60-64 |
回复此楼» 猜你喜欢
求问欧洲陶瓷JECS审稿周期
已经有3人回复
-
定制雾化喷头
已经有0人回复
-
有机高分子材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有225人回复
-
无机非金属材料-申博
已经有24人回复
-
ecoflex 0030的分子式
已经有0人回复
-
南京工业大学古铮荣教授（国家级高层次人才）团队招聘博士后和青年教师
已经有0人回复
-
南京工业大学古铮荣教授（国家级高层次人才）团队招聘博士后和青年教师
已经有0人回复
-
南京工业大学古铮荣教授（国家级高层次人才）团队招聘博士后和青年教师
已经有1人回复
-
碳化硅
已经有0人回复
-
中科大国家级青年人才招聘（无机非金属材料、化学等方向）博士
已经有6人回复
-
华南农业大学禹筱元教授课题组诚招2026级博士生
已经有0人回复