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xzlaiyang

银虫 (初入文坛)

[求助] 求论文一篇,Al 刻蚀相关

Dry etching characteristics of Mo and Al2O3 films in O2/Cl2/Ar inductively coupled plasmas

Kwang-HoKwon, AlexanderEfremov, Sun JinYun, InwooChun, KwangsooKim

《Thin Solid Films》
Volume 552, 3 February 2014, Pages 105-110
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