| 查看: 1132 | 回复: 2 | |||
nfdsmct铜虫 (初入文坛)
|
[求助]
求助用氢氟酸去除单晶硅表面的二氧化硅的问题
|
| 各位虫友,我是在单晶硅上利用激光加工的时候发生了氧化,导致硅表面有二氧化硅存在,想把硅表面的二氧化硅去除掉,查资料好像氢氟酸可以将二氧化硅去除,但是也会与单晶硅反应,麻烦问下有没有人做过相似的研究,氢氟酸的浓度多少,反应多少时间,温度需要调控吗?希望学化学或者懂这个做过相关研究能给个帮助,非常感谢! |
» 猜你喜欢
2026博士申请-成果:一区一篇,二区一篇
已经有1人回复
气相二氧化硅
已经有0人回复
有机高分子材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有96人回复
求问欧洲陶瓷JECS审稿周期
已经有3人回复
碳化硅
已经有0人回复
大连工业大学 超临界流体技术团队(纺材学院)招收2026级“申请-考核制”博士生
已经有11人回复
售SC1一区文章,我:4752 5O36,科目齐全
已经有0人回复
售SC1一区文章,我:4752 5O36,科目齐全
已经有0人回复
售SC1一区文章,我:4752 5O36,科目齐全
已经有0人回复
售SC1一区文章,我:4752 5O36,科目齐全
已经有0人回复
售SC1一区文章,我:4752 5O36,科目齐全
已经有0人回复

|
本帖内容被屏蔽 |
2楼2018-05-29 10:12:37
3楼2019-10-26 15:47:27













回复此楼