| 查看: 1253 | 回复: 2 | ||
nfdsmct铜虫 (初入文坛)
|
[求助]
求助用氢氟酸去除单晶硅表面的二氧化硅的问题
|
| 各位虫友,我是在单晶硅上利用激光加工的时候发生了氧化,导致硅表面有二氧化硅存在,想把硅表面的二氧化硅去除掉,查资料好像氢氟酸可以将二氧化硅去除,但是也会与单晶硅反应,麻烦问下有没有人做过相似的研究,氢氟酸的浓度多少,反应多少时间,温度需要调控吗?希望学化学或者懂这个做过相关研究能给个帮助,非常感谢! |
» 猜你喜欢
319分085702安全工程求调剂
已经有6人回复
DAC对顶压砧|8个月实战记录(含交付数据)
已经有7人回复
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有130人回复
急招2026 博士|第2批 海南大学 |国家重大人才工程人才团队|2名
已经有15人回复
急招2026 博士|第2批 海南大学 |国家重大人才工程人才团队|2名
已经有0人回复
凝胶注模氧化铝陶瓷,开裂问题
已经有1人回复
27 博士申请
已经有25人回复
Data征稿(EI检索收录),选题方向:环境风险管理的数据分析
已经有104人回复
求助,如何处理多孔碳材料才能拍出分散好的粉末SEM照片?
已经有0人回复

|
本帖内容被屏蔽 |
2楼2018-05-29 10:12:37
3楼2019-10-26 15:47:27









回复此楼