24小时热门版块排行榜    

查看: 1134  |  回复: 1

现实中人

金虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射沉积速率有什么靠谱的公式么? 已有1人参与

跪求大佬指点,磁控溅射沉积速率有什么靠谱的公式么?

发自小木虫Android客户端
回复此楼
逆水行舟,不进则退
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
这个真没有统一的公式。
因为影响沉积速率的因素太多太多太多太多太多。。。

1. 不同的元素的溅射系数不一样,相同元素不同制靶工艺的溅射速率也不一样;
2. 不同的气氛,不同的气压,不同的气路分布;
3. 阴极设计的靶面场强,NS极分布,随着刻蚀深度加深的沉积速率影响;
4. 溅射电源类型,电源实际输出功率;
5. 工艺温度多少,靶基距的多少,阳极的位置....


额,更别提新兴技术及设计上面的小窍门啥的了。所以目前没有啥统一公式,只有不同材料理论上能达到的最高溅射沉积速率范围。
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
2楼2018-03-23 12:04:31
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 现实中人 的主题更新
信息提示
请填处理意见