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TFT中，旋涂法做氧化锆薄膜出现破裂现象
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请教各位大神，我在ITO玻璃上旋涂氧化锆栅介质层薄膜时，一到预退火或者是退火薄膜就会破裂（雪花状），一开始是从边缘破裂，然后慢慢整个片子全部裂了，请问是什么原因，或者是有没其他方法。谢谢！我的大致工艺如下： 1、八水氯氧化锆溶于乙二醇甲醚形成0.3mol/L，超声振荡，静置一天 2、旋涂一层后于120℃预退火10分钟，冷却下来再旋一层，再120℃预退火10分钟 3、旋涂三层后在300℃下退火一个小时 现象就是第一层预退火后不裂，第二层后边缘就开始裂开了，到后面就全裂了。试过降低预退火温度，但到了最后的300℃退火时又裂了。还望大家不吝赐教。非常感谢！@hwweven |
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2楼2018-03-16 12:01:49
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旋涂薄膜退火时开裂一般是膜太厚造成的。可能有效的改进建议：a) 降低前驱体溶液浓度；b) 在前躯体溶液中加入稳定剂，比如乙酰丙酮；c) 每涂一层就进行一遍完整的退火工艺，降低退火时的应力；d) 针对氧化锆体系，高温时存在四方到立方的相变，体积会发生改变容易产生应力造成开裂，通过稀土掺杂可以稳定其相态（如氧化钇稳定的氧化锆（YSZ））。目前的处理温度下应该还没有遇到这个问题。 发自小木虫Android客户端 |
3楼2018-03-16 13:31:28
4楼2018-03-16 14:59:29
5楼2018-03-16 15:02:19
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表面等离子体处理只能改变基底材料的表面基团，从而影响亲水性/憎水性，并不改变其膨胀系数。如果你选的溶剂对基底材料不浸润，那么在蒸发过程中溶液由于表面张力自发形成液珠，从而造成涂膜不均匀。这时改变一下基底的表面亲水性是有帮助的。你遇到的问题是退火时才出现皲裂，和上述没关系吧。 升温速率小有助于减少皲裂。 发自小木虫Android客户端 |
6楼2018-03-16 15:19:32
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