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TFT中，旋涂法做氧化锆薄膜出现破裂现象
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请教各位大神，我在ITO玻璃上旋涂氧化锆栅介质层薄膜时，一到预退火或者是退火薄膜就会破裂（雪花状），一开始是从边缘破裂，然后慢慢整个片子全部裂了，请问是什么原因，或者是有没其他方法。谢谢！我的大致工艺如下： 1、八水氯氧化锆溶于乙二醇甲醚形成0.3mol/L，超声振荡，静置一天 2、旋涂一层后于120℃预退火10分钟，冷却下来再旋一层，再120℃预退火10分钟 3、旋涂三层后在300℃下退火一个小时 现象就是第一层预退火后不裂，第二层后边缘就开始裂开了，到后面就全裂了。试过降低预退火温度，但到了最后的300℃退火时又裂了。还望大家不吝赐教。非常感谢！@hwweven |
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