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zilongchn

木虫 (正式写手)

[交流] 活性组分浸渍到分子筛孔道内问题

一般金属活性离子浸渍到MCM孔道后,如果没有焙烧的话,它以什么形式存在,与Si表面有什么作用力呢。
如果焙烧后,它是不是与Si形成键的作用。

thanks
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zhangwengui330

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^_^@^_^(金币+1,VIP+0):QQQ 3-15 22:07
建议找些文献阅读,光听虫油友们的解说还是有限的,要学会从文献找到相关信息。
2楼2009-03-14 20:11:42
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zilongchn

木虫 (正式写手)

楼上说的对,但是,时间有限啊,

所以在宝地学习学习
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3楼2009-03-15 22:42:37
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silhouettecn

金虫 (小有名气)

小木虫

★ ★ ★
zhangwengui330(金币+3,VIP+0):谢谢详细解析!! 3-15 23:09
引用回帖:
Originally posted by zilongchn at 2009-3-13 18:11:
一般金属活性离子浸渍到MCM孔道后,如果没有焙烧的话,它以什么形式存在,与Si表面有什么作用力呢。
如果焙烧后,它是不是与Si形成键的作用。

thanks

这与你所用的前驱体有关,但是,一般是以离子状态存在的, 由于MCM为全硅材料,孔道壁可能会有大量OH基团, 这样,金属粒子可能会与OH进行作用,而不是和硅,除非你的MCM的硅基是进行有机基团修饰的,而金属又是金属有机盐,这样才会可能间接与硅进行作用。

但是,一般催化剂在使用前都需要进行成型和稳定的热处理,所以,当在一定温度处理时,可能金属离子就会以氧化物或者金属颗粒的形式存在在于孔道中。

如果负载量比较低,那么, 粒子因为受孔道尺寸限制, 会分布于孔道内,一般长大的可能性不大,但是,如果负载量太大,可以会出现堵塞孔道的情况,粒子可能会比较大。

培烧后,金属仍不是与Si直接作用。
学无止境,苦为舟,赋为舵,
4楼2009-03-15 23:04:19
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