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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 其它 » 用HF去掉SiO2的反应条件是什么，需要反应多久？温度多少？
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qj1995

新虫 (初入文坛)

[求助] 用HF去掉SiO2的反应条件是什么，需要反应多久？温度多少？ 已有1人参与

如题

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1楼 2018-03-10 12:58:57
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qj1995

新虫 (初入文坛)
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2楼2018-03-10 12:59:38
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qj1995

新虫 (初入文坛)
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3楼2018-03-10 19:25:27
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ymfdun

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
其实不用加热也可以的，3个小时基本就可以反应完全，但是为了保险起见，10%HF, 50℃，3h，甚至更长时间，氢氟酸与SiO2反应速度很快的，2MKOH与二氧化硅反应速度一般，所以，用2MKOH刻蚀的时候要50度过夜搅拌。
还有最后过滤的时候一定要稀释之后再过滤。做好防护措施。
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4楼2018-03-11 13:33:48
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qj1995

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by ymfdun at 2018-03-11 13:33:48
其实不用加热也可以的，3个小时基本就可以反应完全，但是为了保险起见，10%HF, 50℃，3h，甚至更长时间，氢氟酸与SiO2反应速度很快的，2MKOH与二氧化硅反应速度一般，所以，用2MKOH刻蚀的时候要50度过夜搅拌。
还有 ...

谢谢您！
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5楼2018-07-10 18:02:46
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