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qj1995

新虫 (初入文坛)

[求助] 用HF去掉SiO2的反应条件是什么,需要反应多久?温度多少? 已有1人参与

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qj1995

新虫 (初入文坛)

2楼2018-03-10 12:59:38
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qj1995

新虫 (初入文坛)

3楼2018-03-10 19:25:27
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ymfdun

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
其实不用加热也可以的,3个小时基本就可以反应完全,但是为了保险起见,10%HF, 50℃,3h,甚至更长时间,氢氟酸与SiO2反应速度很快的,2MKOH与二氧化硅反应速度一般,所以,用2MKOH刻蚀的时候要50度过夜搅拌。
还有最后过滤的时候一定要稀释之后再过滤。做好防护措施。
4楼2018-03-11 13:33:48
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qj1995

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by ymfdun at 2018-03-11 13:33:48
其实不用加热也可以的,3个小时基本就可以反应完全,但是为了保险起见,10%HF, 50℃,3h,甚至更长时间,氢氟酸与SiO2反应速度很快的,2MKOH与二氧化硅反应速度一般,所以,用2MKOH刻蚀的时候要50度过夜搅拌。
还有 ...

谢谢您!
5楼2018-07-10 18:02:46
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