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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 交叉学科 » 光刻胶AZ 5214E图形反转如何实现的？
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yanqingzhi

新虫 (初入文坛)

[交流] 光刻胶AZ 5214E图形反转如何实现的？

各位大侠：
     小女子刚刚从事新的领域，芯片加工的光刻工艺。对于AZ5214E光刻胶的最大用途甚是迷惑：
1，如果只是为了实现图形的反转，为何不直接用其他负胶呢？而且直接实现倒台面，易于剥离。；
2，使用AZ5214E第一次曝光后，有图形部分发生分解反应，经过反转烘+泛曝光后，这部分图形有什么变化？发生交联反应的只是那些第一次没有曝光的区域吗？
3，恳请哪位大侠能够画幅简图，做个解释，不胜感激啊！
         
     小青在此拜谢啦！
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1楼 2018-02-11 10:53:32
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tableman

木虫之王 (文学泰斗)
★
yanqingzhi(金币+1): 谢谢参与
花开富贵
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3楼2018-02-11 11:14:42
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daerbeijita

铁杆木虫 (正式写手)
★
yanqingzhi(金币+1): 谢谢参与
正胶分辨率比负胶高

发自小木虫Android客户端
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**尚未成功，同志仍需努力
6楼2018-02-11 11:30:36
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zuiaixuexi

至尊木虫 (文坛精英)
祝好运
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至乐之声唯孝悌，美羹有味是诗书。
7楼2018-02-11 11:41:45
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kea_illusion

铁虫 (初入文坛)
6楼说的对
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8楼2018-04-23 14:10:46
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vksnsfe632楼
2018-02-11 11:02   回复  
yanqingzhi(金币+1): 谢谢参与
zqyake1314楼
2018-02-11 11:16   回复  
yanqingzhi(金币+1): 谢谢参与
cjpb7285楼
2018-02-11 11:23   回复  
yanqingzhi(金币+1): 谢谢参与
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