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[交流]
光刻胶AZ 5214E图形反转如何实现的?
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各位大侠: 小女子刚刚从事新的领域,芯片加工的光刻工艺。对于AZ5214E光刻胶的最大用途甚是迷惑: 1,如果只是为了实现图形的反转,为何不直接用其他负胶呢?而且直接实现倒台面,易于剥离。; 2,使用AZ5214E第一次曝光后,有图形部分发生分解反应,经过反转烘+泛曝光后,这部分图形有什么变化?发生交联反应的只是那些第一次没有曝光的区域吗? 3,恳请哪位大侠能够画幅简图,做个解释,不胜感激啊! 小青在此拜谢啦! |
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2018-02-11 11:02
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yanqingzhi(金币+1): 谢谢参与
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2018-02-11 11:23
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