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介孔二氧化硅表面氨基修饰，APTES甲苯体系，粘壁问题已有2人参与
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| 请教做材料的大神帮助解释下，我是在介孔二氧化硅表面进行氨基修饰，参考文献是赵东元老师的Ultradispersed Palladium Nanoparticles in Three-Dimensional Dendritic Mesoporous Silica Nanospheres: Toward Active and Stable Heterogeneous Catalysts这篇文献，但我发现在甲苯中分散介孔硅球十分困难，最大的问题是110℃20h后很容易反应物粘壁，即使超声也很难超声下来，产物很少，我想请教下大神，这个粘壁到底是什么原因导致的，我看见有些帖子说反应体系要加入惰性气体防止氧化，也有说要保持反应体系绝对的无水，而在参考文献中却没有提及，是这两个原因导致的粘壁么？ |
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4楼2017-12-18 15:02:40
yubeihong
铁杆木虫 (职业作家)
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2楼2017-12-11 14:09:32
3楼2017-12-11 14:35:05
5楼2017-12-26 16:55:52