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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 腐蚀防护 » 硅片表面粗糙化的方法
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386992525

木虫 (正式写手)

[求助] 硅片表面粗糙化的方法 已有1人参与

需要制备具有不同粗糙度的硅片。请问各位大神用什么方法比较方便！
用HF或者KOH刻蚀可行吗？
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1楼 2017-11-01 17:11:13
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
386992525: 金币+20, ★★★很有帮助, 非常感谢！ 2017-11-01 18:58:21
HF对Si，Ti等溶解性很强，强碱对不同晶面的Si的溶解速度存在差异，因此，这两种试剂都可以粗面化Si表面，但需要试验，考察浓度、温度和时间的影响。
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Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
2楼2017-11-01 18:03:52
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386992525

木虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Jackcd12 at 2017-11-01 18:03:52
HF对Si，Ti等溶解性很强，强碱对不同晶面的Si的溶解速度存在差异，因此，这两种试剂都可以粗面化Si表面，但需要试验，考察浓度、温度和时间的影响。

另外，比如KOH对硅片表面刻蚀表面孔的深度一般能达到多少？
我只需要10 -20 nm 的孔深度
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3楼2017-11-01 18:59:30
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 386992525 at 2017-11-01 18:59:30
另外，比如KOH对硅片表面刻蚀表面孔的深度一般能达到多少？
我只需要10 -20 nm 的孔深度...

与你用的KOH的浓度，温度和时间有关，如果用6-10M KOH, 30-50C, 10min 左右就可以到达10-20nm，这需要多摸索。
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386992525
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
4楼2017-11-01 20:23:28
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386992525

木虫 (正式写手)
送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by Jackcd12 at 2017-11-01 20:23:28
与你用的KOH的浓度，温度和时间有关，如果用6-10M KOH, 30-50C, 10min 左右就可以到达10-20nm，这需要多摸索。...

好的 谢谢！
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5楼2017-11-17 13:56:42
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