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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 求助!! TAT 低压cvd生长双层石墨烯
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beatlesova

新虫 (初入文坛)

[求助] 求助!! TAT 低压cvd生长双层石墨烯 已有2人参与

求助 低压生长双层石墨烯 什么都长不出来 烧完后铜片在显微镜下可以看到密密麻麻都是坑 铜片也会变得没有光泽 求问大家有过类似情况 或知道解决的方法吗   我用的是1050摄氏度 1055 1000 1040也都试过  甲烷是0.9sccm 氢气 200sccm压强 10kPa  希望大家可以给我点信息 给我点思路 谢谢大家了!

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1楼 2017-10-18 21:52:58
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aliancer

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

增大甲烷流量至10Sccm，气压改为1000Pa左右。先生长出石墨烯薄膜，再调节甲烷流量和气压温度等，来控制层数和形貌
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哀吾生之须臾,羡长江之无穷;挟飞仙以遨游,抱明月而长终;知不可乎骤得,托遗响于悲风
2楼2017-10-25 10:00:28
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仗剑天涯去

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

表面坑坑洼洼我也碰到过，不过我压力400帕，新石英管会这样，烧几次就好啦。我长单层的，压力更低，甲烷浓度非常低，具体跟石英管内径，体系等都有关系，不同设备稍有不同。还有就是铜一定要用alfa的046365.希望对你有帮助！
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3楼2017-12-25 10:53:22
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