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求助： 铁化合物的伏安CV 扫描氧化还原峰的问题
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求助各位电化学达人，近期做了一个 氯化铁 和 ferric trifluoromethanesulfonate (中文叫三氟化甲基化硫酸铁？）还有一个溴化铁 的CV 扫描图。 用的电极一次是 Pt, Ag/AgCl, 碳； 溶剂是氯仿， 也试过 乙腈， 添加的电解质是 Bu4N PF6(就是最常用的那个）。 实际测试的结果，三氯化铁的还原电位在0 V 左右，溴化铁的在0.1 V左右，ferric trifluoromethanesulfonate 浓度低时没有任何峰，浓度高时，再 – 0.4V 左右有个还原峰，无氧化峰，一直不能理解。 1）其他方面的测试，有种倾向是 三氯化铁氧化性要比ferric trifluoromethanesulfonate 的强，但是应该差距不会这么大。 2）换了亲水性的有机溶剂重扫，结果几乎不怎么改变 3）文献报道的三价铁，就算络合的氰化铁还原电位都有0.3 V 左右，不明白氯化铁为什么这么低。 4）ferric trifluoromethanesulfonate 也是离子化合物，为什么没有氧化还原峰？  10-3-2017 9-41-50 PM.jpg |
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我没有做过这个实验，只能通过你说的推断一下，如果文献三价铁还原电位在0.3v左右，你测的在0-0.1v左右，那说明溶液中的三价铁可能发生络合了，才导致还原电位降低，你可以增大扫描速率试试。至于你说的三氟化甲基化硫酸铁我不知道你是先正扫还是先负扫？ 发自小木虫Android客户端 |
2楼2017-10-04 09:58:31
3楼2017-10-04 10:11:04
4楼2017-10-04 10:23:40
