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单晶精修问题 已有2人参与
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各位大神，小弟最近投了一个晶体文章，编辑回复了几个问题难以解决，小弟请教了编辑解决方法，但小弟晶体刚刚入门，一时难以看懂。编辑回复如下： 1、Add "SHEL 8 0" in a line directly after the OMIT command. This command cuts all the inner reflections, with a resolution larger than 8 A. 2、The H2 atom at the N2 atom may be refined with a DFIX command. Thus a. remove the AFIX 43 b. replace the -1.2 for the U value by a fixed value like 10.10 c. add a line at the end of the file: DFIX 0.92 0.01 N2 H2 The result should be a H atom refined with a so called distance restraint.. 3、I think absorption correction is not needed 。 关于第一和第二个问题，小弟想问具体在单晶哪个文件中操作，第三个问题是不是直接在cif文件中将关于absorption都删除，但小弟在删除后进行检查时出现了A类错误。请各位大神帮忙指导一下小弟。 |
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