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薄膜问题 已有1人参与
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用磁控溅射仪器射频溅射方法用TiO2靶材镀TiO2薄膜，在工作压强P＝0.44Pa,室温条件下，氩气与氧气的压强比50，功率160W, 衬底与靶材之间的距离8cm左右，溅射时间2 h,在玻璃衬底上镀出来的膜厚只有140nm这么薄。 请各位高手指点一下改变什么条件能够使薄厚增加呢？谢谢啦！  |
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2楼2011-03-21 21:48:43