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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 光阻涂布晶片内外区域厚度均一性
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yigeren89

新虫 (正式写手)

[求助] 光阻涂布晶片内外区域厚度均一性 已有2人参与

我们公司做芯片制程的，涂布光阻玻璃时，把光阻剂滴在晶片中心，通过旋转离心力的方式使光阻剂全面覆盖在整个晶片，但是用此方法做，晶片边缘的光阻剂比中心的厚30％，电性差异大，请问如何才能使整个晶片的内外区域光阻玻璃的厚度一致？请各位大神赐教。

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1楼 2017-08-23 21:51:24
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zirenfly

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
转速快的话，会更薄，但薄膜是也会更均匀
赞一下 回复此楼
鲜衣怒马少年时,且歌且行且从容。
4楼2017-08-25 21:44:37
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易木草

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
对于 TEL 的Track 机台，都可以通过调整 程式 来调整 光阻 涂布的 profile.
一般都是在主转速 部分 前加入 pre-spin 步骤。一般都比主转速大。
然后通过调整该步骤的的加速度，持续时间等等来调整 profile.
程式有足够的工艺窗口调整光阻均匀度，也可以调为 周边厚或者周边薄。
除此以外光阻的 dispense rate ，dispense time, 温度都会产生直接影响。
赞一下 回复此楼
我一个逛贴吧的怎么看上去也学术不起来...
2楼2017-08-24 11:27:01
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