| 查看: 1627 | 回复: 3 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
光阻涂布晶片内外区域厚度均一性 已有2人参与
|
||
|
我们公司做芯片制程的，涂布光阻玻璃时，把光阻剂滴在晶片中心，通过旋转离心力的方式使光阻剂全面覆盖在整个晶片，但是用此方法做，晶片边缘的光阻剂比中心的厚30％，电性差异大，请问如何才能使整个晶片的内外区域光阻玻璃的厚度一致？请各位大神赐教。 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
0703化学求调剂
已经有17人回复
-
考研调剂-材料类-284
已经有15人回复
-
一志愿211 0703化学 346分求调剂
已经有3人回复
-
材料工程085601，270求调剂
已经有24人回复
-
085404 293求调剂
已经有3人回复
-
调剂
已经有21人回复
-
复试调剂，一志愿郑州大学材料与化工289分
已经有15人回复
-
08工科求调剂290分
已经有12人回复
-
286求调剂
已经有16人回复
-
材料类284调剂
已经有24人回复
zirenfly
木虫 (小有名气)
- 应助: 12 (小学生)
- 金币: 1792.3
- 红花: 2
- 帖子: 217
- 在线: 52.4小时
- 虫号: 2594416
- 注册: 2013-08-13
- 性别: GG
- 专业: 半导体电子器件
4楼2017-08-25 21:44:37
2楼2017-08-24 11:27:01
