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光阻涂布晶片内外区域厚度均一性 已有2人参与
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我们公司做芯片制程的，涂布光阻玻璃时，把光阻剂滴在晶片中心，通过旋转离心力的方式使光阻剂全面覆盖在整个晶片，但是用此方法做，晶片边缘的光阻剂比中心的厚30％，电性差异大，请问如何才能使整个晶片的内外区域光阻玻璃的厚度一致？请各位大神赐教。 发自小木虫Android客户端 |
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zirenfly
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