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yigeren89

新虫 (正式写手)

[求助] 光阻涂布晶片内外区域厚度均一性 已有2人参与

我们公司做芯片制程的,涂布光阻玻璃时,把光阻剂滴在晶片中心,通过旋转离心力的方式使光阻剂全面覆盖在整个晶片,但是用此方法做,晶片边缘的光阻剂比中心的厚30%,电性差异大,请问如何才能使整个晶片的内外区域光阻玻璃的厚度一致?请各位大神赐教。

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易木草

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
对于 TEL 的Track 机台,都可以通过调整 程式 来调整 光阻 涂布的 profile.
一般都是在主转速 部分 前加入 pre-spin 步骤。一般都比主转速大。
然后通过调整该步骤的的加速度,持续时间等等来调整 profile.
程式有足够的工艺窗口调整光阻均匀度,也可以调为 周边厚或者周边薄。
除此以外光阻的 dispense rate ,dispense time, 温度都会产生直接影响。
我一个逛贴吧的怎么看上去也学术不起来...
2楼2017-08-24 11:27:01
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yigeren89

新虫 (正式写手)

内容已删除
3楼2017-08-24 17:26:10
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zirenfly

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
转速快的话,会更薄,但薄膜是也会更均匀
鲜衣怒马少年时,且歌且行且从容。
4楼2017-08-25 21:44:37
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