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介孔二氧化硅的特征峰不尖锐是怎么回事啊,请了解的前辈们指导一下,不胜感激!
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合成条件是:以P123和CTAB为双模板,TEOS为硅源,pH调整到12,搅拌三小时,之后60℃干燥12h。 做出来的试料拿去测xrd小角,结果一直是这样。然后还用了水热合成法,结果还是跟图中的差不多,一直做不出来理想的样品,很烦人。请各位前辈麻烦提提意见,谢谢了。 图片1.png |
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