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[求助]
介孔二氧化硅的特征峰不尖锐是怎么回事啊，请了解的前辈们指导一下，不胜感激！
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合成条件是：以P123和CTAB为双模板，TEOS为硅源，pH调整到12，搅拌三小时，之后60℃干燥12h。 做出来的试料拿去测xrd小角，结果一直是这样。然后还用了水热合成法，结果还是跟图中的差不多，一直做不出来理想的样品，很烦人。请各位前辈麻烦提提意见，谢谢了。  图片1.png |
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