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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 综合资源 » 直流磁控溅射和射频磁控溅射有哪些区别？为什么我用直流磁控溅射制备氧化钴却不可得？
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cz199102

新虫 (小有名气)

[求助] 直流磁控溅射和射频磁控溅射有哪些区别？为什么我用直流磁控溅射制备氧化钴却不可得？

我是采用直流靶溅射金属钴并通用氧气来制备氧化钴的，当打开直流源后指针特别不稳定，调高后电压不断升高，是由于什么原因呢，望各位虫友给予解惑。谢谢大家！
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1楼 2017-06-26 08:39:44
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091820053

禁虫 (知名作家)
本帖内容被屏蔽
2楼2017-06-26 09:04:31
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091820053

禁虫 (知名作家)
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3楼2017-06-26 09:04:40
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cz199102

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 091820053 at 2017-06-26 09:04:31
射频打不导电的

百度百科上说射频也可以溅射导电的
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4楼2017-06-26 09:08:11
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091820053

禁虫 (知名作家)
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5楼2017-06-26 09:37:59
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骚不透

新虫 (初入文坛)
我是做镀膜的，电流不稳，原因有几种，1,真空要求没达到。2,靶材不纯或表面不干净发生辉光放电，3,非反应气体不纯或流量过小。

发自小木虫Android客户端
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6楼2017-07-01 12:52:55
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