| 查看: 955 | 回复: 5 | ||
[求助]
直流磁控溅射和射频磁控溅射有哪些区别?为什么我用直流磁控溅射制备氧化钴却不可得?
|
| 我是采用直流靶溅射金属钴并通用氧气来制备氧化钴的,当打开直流源后指针特别不稳定,调高后电压不断升高,是由于什么原因呢,望各位虫友给予解惑。谢谢大家! |
» 猜你喜欢
上 海 交 大 材 料 学 院 拟 招 26 年 生 物 材 料 方 向 普 博 生 1 名
已经有5人回复
北京985或211推荐博导
已经有0人回复
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有168人回复
同一篇文章,用不同账号投稿对编辑决定是否送审有没有影响?
已经有3人回复
郑州大学田佳佳团队诚招2026年入学博士研究生
已经有0人回复
材料科学基础
已经有0人回复
非周期结构电荷饱和问题
已经有1人回复
2026申博自荐
已经有6人回复
求求2Cr13的激光冲击有限元模拟J-C本构参数
已经有0人回复
Materials Today Chemistry审稿周期
已经有6人回复
|
本帖内容被屏蔽 |
2楼2017-06-26 09:04:31
|
本帖内容被屏蔽 |
3楼2017-06-26 09:04:40
4楼2017-06-26 09:08:11
|
本帖内容被屏蔽 |
5楼2017-06-26 09:37:59
6楼2017-07-01 12:52:55













回复此楼