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脉冲激光沉积制备工艺求助。
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liuyulun1225
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专业: 半导体材料
[
求助
]
脉冲激光沉积制备工艺求助。
已有2人参与
想知道激光打到靶材上,让不同材质靶材打出等离子体的能量阀值是多少?
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1楼
2017-06-11 12:00:30
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PLD少年
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注册: 2017-06-20
专业: 半导体晶体与薄膜材料
【答案】应助回帖
引用回帖:
8楼
:
Originally posted by
kangye_1989
at 2017-06-22 11:38:47
薄膜的厚度太薄,XRD衍射峰可能非常弱,被衬底衍射峰覆盖了。关于标准卡片的问题,PLD生长的薄膜一般是单一取向的薄膜,比如说001方向,所以衍射峰只出现(00L)的衍射峰,不会出现其他取向的衍射峰。所以你和标准 ...
请问你们的衬底怎么处理的?XRD测的是高分辨模式吗?
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9楼
2017-06-22 11:59:09
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liuyulun1225
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专业: 半导体材料
简单说一下情况:用的是KrF准分子激光器,波长是248nm,换算出来光子能量大约是9ev,聚焦在靶材的光斑尺寸不知道怎么测量。靶材是GaN靶和In靶。请大家指导一下,或者告诉我该看什么书。
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2楼
2017-06-11 12:01:00
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kangye_1989
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注册: 2013-10-19
专业: 凝聚态物性 II :电子结构
【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
你关注的方向可能有点问题,我们一般会关注等离子羽辉能溅射到沉底上这个时候的能量值,我们实验室就是直接观察,生长薄膜时会比这个值大一些,具体的能量需要通过实验得到,已得到结晶质量高,表面平整的能量值为优。这个能量还与腔体内的真空度有很大关系。光斑的大小一般是不会去测的,比较难测。可以用感光纸放到靶材的位置上,打一下看看光斑的大小,一般感光纸会直接打穿烧掉。
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3楼
2017-06-12 11:14:52
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liuyulun1225
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注册: 2015-01-09
专业: 半导体材料
引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
kangye_1989
at 2017-06-12 11:14:52
你关注的方向可能有点问题,我们一般会关注等离子羽辉能溅射到沉底上这个时候的能量值,我们实验室就是直接观察,生长薄膜时会比这个值大一些,具体的能量需要通过实验得到,已得到结晶质量高,表面平整的能量值为优 ...
好的,谢谢您的指导。
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4楼
2017-06-13 10:33:42
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