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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 高分子 » 高分子化学 » 使用旋涂法在硅片上涂膜，为什么会有放射状痕迹？
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john3069

铜虫 (小有名气)
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使用旋涂法在硅片上涂膜，为什么会有放射状痕迹？
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旋涂法涂膜，涂完之后薄膜表面有向外的放射状痕迹，说明什么，是片子没有洗干净吗，还是其他原因？
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1楼 2017-06-09 15:09:20
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john3069

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
17楼: Originally posted by i东哥i at 2017-06-15 23:05:54
匀胶机没有放置水平也不会出现环状痕迹呀，你换一批硅片试一下看看还有没有这个现象，如果有的话可以考虑硅片抛光问题...

试过很多次，环形痕迹经常会有，另外我用的硅片的确是抛光过的，有抛光面，是否有可能旋转过程中吸力不够或硅片下表面潮湿导致的硅片滑动造成，之前都是将硅片从轻水里取出来后直接放到匀胶机上先甩干，再涂胶
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18楼2017-06-16 08:53:38
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zjynudt

新虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
转速呢，不懂啊，猜的，旋转造成的径向流动

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12楼2017-06-09 15:11:24
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中研驿站4楼
2017-06-09 15:09   回复  
john3069(金币+1): 谢谢参与
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山狸猫9楼
2017-06-09 15:10   回复  
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baoluyao10楼
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syx_017楼
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diestars3楼
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dapeng5206楼
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AYGXY2015ZXJ8楼
2017-06-09 15:09   回复  
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lance039613楼
2017-06-09 15:12   回复  
万邦翻译2楼
2017-06-09 15:09   回复  
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想混科研圈11楼
2017-06-09 15:10   回复  
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张鹏6115楼
2017-06-09 15:09   回复  
john3069(金币+1): 谢谢参与
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