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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 高分子 » 高分子化学 » 使用旋涂法在硅片上涂膜，为什么会有放射状痕迹？
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john3069

铜虫 (小有名气)
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使用旋涂法在硅片上涂膜，为什么会有放射状痕迹？
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旋涂法涂膜，涂完之后薄膜表面有向外的放射状痕迹，说明什么，是片子没有洗干净吗，还是其他原因？
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1楼 2017-06-09 15:09:20
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john3069

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
15楼: Originally posted by i东哥i at 2017-06-13 22:25:24
可能是因为转速不够高，放射状痕迹应该不是因为片子没洗干净的缘故，不过有可能是因为片子没有抛光，对样品的分散有阻力
可以参考下https://asa-tech.taobao.com/这家的硅片

有时候也会遇到圆环状痕迹，或者有点状区域没涂上。圆环状是不是和涂胶机也有关系，可能下面没有放稳造成的。
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16楼2017-06-14 16:38:01
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zjynudt

新虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
转速呢，不懂啊，猜的，旋转造成的径向流动

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12楼2017-06-09 15:11:24
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中研驿站4楼
2017-06-09 15:09   回复  
john3069(金币+1): 谢谢参与
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山狸猫9楼
2017-06-09 15:10   回复  
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baoluyao10楼
2017-06-09 15:10   回复  
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syx_017楼
2017-06-09 15:09   回复  
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diestars3楼
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dapeng5206楼
2017-06-09 15:09   回复  
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AYGXY2015ZXJ8楼
2017-06-09 15:09   回复  
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lance039613楼
2017-06-09 15:12   回复  
万邦翻译2楼
2017-06-09 15:09   回复  
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想混科研圈11楼
2017-06-09 15:10   回复  
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张鹏6115楼
2017-06-09 15:09   回复  
john3069(金币+1): 谢谢参与
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