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新虫 (小有名气)

[求助] 金属半导体接触问题

在宽禁带半导体上分别溅射Ag和Al,俩金属的功函数分别4.26和4.27,为何测出来的I-V曲线显示,Ag-半导体接触为欧姆接触,Al-半导体却是肖特基接触?难以思考出原因,求专业人士帮忙啊?

@dut_ameng 发自小木虫IOS客户端
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新虫 (小有名气)

引用回帖:
9楼: Originally posted by guotao019 at 2017-06-01 00:14:24
Al氧化后表面会生成一层非常薄的氧化膜,这个氧化膜会避免Al的进一步氧化。一般探针都是钨针,针扎的地方很轻易就能扎透氧化膜。
...

后来我转换方法,在溅射的金属表面焊接出来导线,用金属导线作为电极加电压,还是一样的结果……

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11楼2017-06-01 09:47:55
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aliure

木虫 (正式写手)

铝表面会马上生成氧化铝,所以你的测的不是Al与半导体接触

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人物迷迷糊糊;性格阳光,不难相处;喜欢读书看树,偶尔出去溜溜,洗洗漱漱
2楼2017-05-31 18:26:37
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新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by aliure at 2017-05-31 18:26:37
铝表面会马上生成氧化铝,所以你的测的不是Al与半导体接触

我溅射的时候是真空条件啊。接触的地方是Al没错啊……

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3楼2017-05-31 18:45:27
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新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by aliure at 2017-05-31 18:26:37
铝表面会马上生成氧化铝,所以你的测的不是Al与半导体接触

就算氧化也是表面被氧化,接触的地点应该是Al没错的啊,我探针扎在Al上

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4楼2017-05-31 18:47:28
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