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[交流]
【求助】何种表面活性剂可以减小NO2气泡体积并使其迅速离开硅片表面？
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我腐蚀微结构的时候遇到一个问题，光刻之后在酸性腐蚀液（HNO3+HF+冰乙酸）对硅表面进行腐蚀，由于腐蚀过程中会产生NO2气泡，气泡聚积在硅表面造成腐蚀效果不佳，微结构刻不深和脱胶等问题。 虫子们谁知道在HNO3+HF腐蚀液加入哪种表面活性剂可以减小气泡（NO2）体积并使其迅速离开硅片表面？ 有的话能否顺便告知这种表面活性剂大概的购买途径和相关的腐蚀工艺？ 谢谢大家 : ) |
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