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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 关于中空介孔结构Fe3O4@SiO2纳米微球的合成问题
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中矿大刘红

新虫 (初入文坛)

[求助] 关于中空介孔结构Fe3O4@SiO2纳米微球的合成问题 已有2人参与

1.介孔结构采用的CTAB作为模板，应该采用煅烧还是萃取的方法进行去除
2.关于中空结构的形成，Fe3O4核心应该采用什么方法刻蚀
(如果有相关的文献也希望推荐一下)

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1楼 2017-05-04 15:02:33
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匿名

用户注销 (小有名气)
★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
中矿大刘红: 金币+5, ★★★很有帮助 2017-05-08 10:06:38
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中矿大刘红
2楼2017-05-04 16:48:24
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jinchangzi

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
中矿大刘红: 金币+10, ★★★很有帮助 2017-05-08 10:05:13
J. Phys. Chem. C 2010, 114, 16382–16388
Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 2780–2788
Chem. Mater. 2009, 21, 2547–2553
small 2011, 7, No. 4, 425–443
相关文献不少，CTAB煅烧除的干净，但是烧的过程Fe3O4会被氧化，可以再还原，刻蚀不好控制，Fe3O4在酸中很不稳定，建议采用硬模板法制备中空结构。
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3楼2017-05-04 16:56:15
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中矿大刘红

新虫 (初入文坛)
送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by 程孟2012 at 2017-05-04 16:48:24
两种方法都可去CTAB模板，萃取法可以保持二氧化硅表面官能团和结构不受破坏，煅烧会导致部分损失，取决于你有没有后一步反应的需求了。

pH调至1以下，四氧化三铁就可以可是掉了

谢谢

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4楼2017-05-08 09:45:50
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中矿大刘红

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by jinchangzi at 2017-05-04 16:56:15
J. Phys. Chem. C 2010, 114, 16382–16388
Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 2780–2788
Chem. Mater. 2009, 21, 2547–2553
small 2011, 7, No. 4, 425–443
相关文献不少，CTAB煅烧除的干净，但是烧的过程Fe3O4 ...

谢谢

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5楼2017-05-08 09:46:17
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丁雯竹丁雯竹
。

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6楼2017-05-08 10:13:46
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中矿大刘红

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 程孟2012 at 2017-05-04 16:48:24
两种方法都可去CTAB模板，萃取法可以保持二氧化硅表面官能团和结构不受破坏，煅烧会导致部分损失，取决于你有没有后一步反应的需求了。

pH调至1以下，四氧化三铁就可以可是掉了

我还想问一下，酸性这么强对SiO2壳层会不会有影响，而且对于刻蚀时间与刻蚀程度的控制有什么相关的标准吗？有没有文献具体讲述过这些内容

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7楼2017-05-08 14:41:47
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史东生

新虫 (小有名气)
请问你包覆的硅烷效果怎么样？

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8楼2019-01-10 11:51:50
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